平板显示与精密光学镀膜

磁控溅射镀膜是现代平板显示、半导体与光电器件制造的核心薄膜工艺。溅射靶材在真空腔体内受高能氩离子轰击，原子被溅出并沉积于玻璃或柔性基板表面，形成导电、光学或阻隔功能薄膜。靶材的纯度、晶粒取向与致密度直接影响薄膜均匀性、方块电阻与光学性能。

在显示面板领域，银合金靶材用于制备高迁移率电极与触控传感器线路；氧化铟锡（ITO）及各类金属靶材则广泛用于OLED蒸镀遮挡、薄膜封装与光学增反结构；在光学镀膜领域，高纯金属及合金靶材支撑着增透膜、反射膜与滤光膜的批量生产。

阁钛科技提供多种金属及合金溅射靶材，支持定制尺寸与背板焊接，满足G8.5以上世代线及精密光学镀膜设备的用料需求。